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說明
產品特點：
專利配方技術，專利號：HK1224501
本產品採用專利技術特別調配而成。此乳霜能有效淡化瑕疵，蘊含芍藥苷與積雪草苷，有助促進真皮細胞修復，並減少黑色素堆積。本產品能使肌膚柔嫩且緊緻。
主要成分：
、芍藥苷、積雪草苷、/MultiExBSASMTM、玻尿酸、泛醇
使用方法：
取適量乳霜塗抹於潔淨的臉部（請避開受損肌膚）。輕柔按摩直至完全吸收。每日使用 2 至 3 次，視需求調整。
彩豐行皮奧寧祛痘・淡疤去印修復膏 20毫升
功效說明：
- 專利配方技術
- 日本皮奧寧成分
- 改善痘疤
- 促進真皮細胞癒合
專利配方技術，專利號：1224501
獨特配方結合專利技術，能有效改善痘疤並淡化色斑與痘印，蘊含皮奧寧及積雪草苷，促進真皮細胞修復，消除黑色素沉澱，讓肌膚重現細緻平滑的質感。
主要成分：
、積雪草苷、天然植物抗敏精華、玻尿酸、泛醇
使用方法：
潔面及爽膚後，取適量塗抹於痘痘處（避開皮膚破損處），輕柔按摩至吸收，建議每日使用兩至三次。
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